本期我們和大家一起討論多模光纖測(cè)試中一個(gè)特殊的要求，環(huán)通量EF。

在上圖中，自上而下，分別是LED光源、VCSEL垂直腔表面發(fā)射激光以及激光光源。我們理想的光源當(dāng)然是平行光入射，沒有入射角的，但除了激光光源外，很難實(shí)現(xiàn)沒有入射角的投射方式，然而事實(shí)上激光光源也是有入射角，只是非常小，可以忽略。
我們來(lái)看LED入射方式，它其實(shí)是通過(guò)滿注入的方式投射到光纖，我們知道多模光纖孔徑是62.5微米或者50微米，當(dāng)LED投射到光纖端面，如果把投射面看作一個(gè)射擊靶盤，那么滿注入相當(dāng)于光源投射在直徑為100微米的靶盤內(nèi)，而VCSEL光源相當(dāng)于投射的直徑為35微米的靶盤內(nèi)，激光光源投射的是直徑為10微米的靶盤內(nèi)。

也就是說(shuō)，不同光源會(huì)導(dǎo)致不同靶盤面積，這個(gè)我們可以把它看作入射光的通過(guò)量。日常使用時(shí)，我們連接光纖時(shí)，由于對(duì)位不齊，很容易造成極小偏芯的情況，這使得采用LED光源做測(cè)試時(shí)，會(huì)帶來(lái)很大的不確定度，嚴(yán)重的可以導(dǎo)致50%以上不確定度，因此國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)ISO11801和TIA568.3-D以及國(guó)標(biāo)GB50312中都增加了對(duì)測(cè)試儀表光源發(fā)光的EF環(huán)通量的要求，即將靶盤有效區(qū)域控制在一定區(qū)域內(nèi)，一般控制在直徑45微米以內(nèi)的區(qū)域內(nèi)，這樣測(cè)試的不確定性能夠降至10%以內(nèi)。

在上圖中我們可以看到，要實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的EF光環(huán)通量，不僅需要支持EF-LED的優(yōu)化光源，也需要加入支持EF環(huán)通量的光纖測(cè)試跳線，我們一般把它稱作EF餅干跳線，通過(guò)EF調(diào)節(jié)后，使得光纖輸出末端的光能量集中在半徑是22μm~25μm的靶心區(qū)域。